In den neuen Laboren im LENA steht uns ein Aufbau zur Verfügung, der aus einem Bruker Dimension Icon Rasterkraftmikroskop und einem konfokalen inVia Raman-Mikroskop von Renishaw besteht, die über einen flexiblen Arm miteinander gekoppelt sind.
Dieser Messaufbau ermöglicht korrelative mikroskopische Messungen. So können beispielsweise gleichzeitig die Topographie und chemische Zusammensetzung einer Probe ortsaufgelöst bestimmt werden.
Das Rasterkraftmikroskop besitzt eine Schnittstelle zur nutzerseitigen Aufrüstung einer 3D-Funktionalität, durch die auch topographische Messungen der Seitenprofile von dreidimensionalen Strukturen rückführbar aufgenommen werden können1,2. Diese Aufrüstung erfolgt aktuell in enger Zusammenarbeit mit der PTB (Physikalisch Technische Bundesanstalt).
[1] G. Dai et al., Measurements of CD and sidewall profile of EUV photomask structures using CD-AFM and tilting-AFM, 2014 Meas.Sci.Technol. 25 044002, DOI: 10.1088/0957-0233/25/4/044002
[2] G. Dai et al., New developments at Physikalisch Technische Bundesanstalt in three- dimensional atomic force microscopy with tapping and torsion atomic force microscopy mode and vector approach probing strategy, 2012 Journal of Micro/ Nanolithography, MEMS, and MOEMS. DOI:10.1117/1.JMM.11.1.011004
Kontakt: Alina Syring