Mit dem Maskaligner werden für die fotolithographische Übertragung der Mikrostrukturen von einer Fotomaske auf ein beschichtetes Substrat diese zueinander ausgerichtet und anschließend mit UV-Licht belichtet. Die Ausrichtung erfolgt optisch kontrolliert anhand von Justiermarken ("alignment marks"), die auf Maske und Substrat vorliegen. Die Belichtung erfolgt im Breitbandspektrum, kann durch gezielten Einsatz von Filtern aber auch in einem ausgewählten Wellenlängenbereich (z. B. i-Linie bei 365nm) erfolgen.
Hersteller
Typ
Substrate/Wafer
Fotomasken
Exposure
Alignment