Das Arbeitspferd der LENA-Infrastruktur kombiniert einen zweistrahligen Focused-Ion-Beam (FIB) und ein Rasterelektronenmikroskop (SEM). Es bietet eine Vielzahl verschiedener Möglichkeiten zur Strukturierung und Charakterisierung von Proben. Sein Hauptzweck ist die Erzeugung von Nanostrukturen durch Materialabtrag mit dem Gallium-Ionen-Strahl. Dieser Prozess kann mit dem SEM "in operndo" überwacht werden. Dadurch bietet das Gerät vielfältige Möglichkeiten zur Nanostrukturierung von Proben.
Eine wesentliche Aufgabe des Gerätes ist es TEM Lamellen in nahezu beliebiger Geometrie aus Proben zu präparieren. Die Ga-Ionenstrahlenergien können von 500 eV- 30 keV eingestellt werden. Die Ortsauflösung des Ionenstrahls beträgt 4 nm mit 30 keV Ionen (2,5 nm im selective-edge-mode) und 500 nm bei 500 eV Ionenenergie. Das System verfügt über eine Reihe von Charakterisierungsmöglichkeiten mithilfe des Elektronenstrahls. Die Elektronenprimärstrahlenergie kann zwischen 1 keV und 30 keV eingestellt werden. Das System verfügt über zahlreiche Detektoren, unter anderem einen Rückstreudetektor und einen In-Lense-Detektor. Zusätzlich kann das Elektronenmikroskop im Transmissionsmodes verwendet werden (STEM). Die STEM Auflösung beträgt 0.6 nm @ 30 keV. Es gibt die Möglichkeit zur Elektronenstrahl- (oder Ionenstrahl)-assistierten Deposition von C und Pt. Außerdem verfügt das System über eine über einen Mikromanipulator zum Beispiel zum Transfer von Lamellen auf einen TEM Träger. Die Probenaufnahme und der Einbau in das Gerät erlaubt eine flexible Nutzung mit einer Vielzahl von Proben. Ein in-situ Plasma-cleaner ist in das System integriert.
Diese Maschine ist in einem "Benutzer"-Modus zugänglich, d.h. wir bieten einer begrenzten Anzahl von Personen die Möglichkeit, diese Maschine (nach einer längeren Einarbeitungszeit) selbst zu bedienen. Wenn Sie Projekte haben, die eine häufige und/oder intensive Nutzung des FIB/SEM erfordern, können Sie uns gerne für weitere Einzelheiten kontaktieren (m.etzkorn@tu-bs.de).
